Implementace vypařovacího systému pro depozice tenkých vrstev - Cifreund, David (Jihočeská univerzita, 2017)
Bakalářská práce je zaměřena na dávkovací systém pro PECVD procesy v prostředí nízkoteplotního plazmatu. Klíčem úspěšných depozic je přesný a stabilní průtok prekurzoru do reaktoru, kde probíhají výboje různého druhu, využívané pro depozici tenkých vrstev. V případě, že je příměsí prekurzoru kapalina, je potřeba ji smíchat s nosným plynem a výslednou směs převést kompletně do plynné fáze. Pro tyto účely byl vybrán vypařovací systém CEM značky Bronkhorst High-Tech B.V., složený z regulátoru průtoku pro plyn, regulátoru průtoku pro kapalinu, vypařovací jednotky a řídícího modulu pro jejich ovládání. Cílem práce je implementovat uvedený vypařovací systém do plazma chemického reaktoru, provést jeho kalibraci a testovací měření.
Implementation of evaporating system for deposition of thin films
Keywords: Fyzika plazmatu; PECVD; tekutina; průtok; vypařování; CEM; vakuum; Plasma physics; PECVD; fluid; flowrate; evaporating; CEM; vacuum