Vytváření tenkých vrstev pro aplikace pokročilých oxidačních procesů s využitím kovových dopantů - Krajčovič, Jan (Jihočeská univerzita, 2014)
Cílem této diplomové práce bylo nanesení tenkých vrstev TiO2 na různé typy a velikosti substrátů, přičemž některé vrstvy vytvořit s využitím dopantů železa nebo stříbra. V rámci práce byla nanesena řada vrstev TiO2 metodou magnetronového naprašování na aparatuře Dreva ARC 400 Hard Material Coating Plant. Hlavním cílem nanášení těchto vrstev bylo, pokusit se nanést tenké vrstvy TiO2 na substráty o větší ploše, než je při běžných laboratorních procesech běžné. Za tímto účelem byly vrstvy nanášeny na čtvercové skleněné destičky o straně 10 cm. Pro porovnání a zkoumání dalších vlastností nanesených vrstev byly jako substráty použity také mikroskopická sklíčka a úlomky z křemíkových destiček. Na těchto substrátech byla poté testována fotokatalytická aktivita a morfologie nanesených vrstev. Teoretická část této práce je zaměřena na používané metody nanášení tenkých vrstev TiO2 a jejich vlastnosti. V experimentální části je pak popsána použitá aparatura a parametry jednotlivých depozičních procesů. Dále je zde shrnutí vlastností nanesených vrstev a výsledky jednotlivých experimentů.
Deposition of the thin films for applications of advanced oxidation processes using metal dopants
Keywords: TiO2; oxid titaničitý; depozice; magnetronové naprašování; PVD; tenké vrstvy; fotokatalýza; dopování; dopanty; SEM; TiO2; Titanium dioxide; deposition; magnetron sputtering; PVD; thin film; thin layer; photocatalysis; doping; dopants; SEM