Optimalizace depozičních parametrů za účelem vytvoření fotokatalytických titanoxidových vrstev metodou PECVD
Loading...
Date
Authors
Pekárek, Michal
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Jihočeská univerzita
Abstract
Cílem této diplomové práce je depozice titan oxidových vrstev metodou PECVD za pomoci vlastního PECVD reaktoru, sestaveného v budově Katedry aplikované fyziky a techniky. Dalším cílem je optimalizace parametrů depozice za cílem vytvoření fotokatalytických TiOx vrstev a srovnání těchto vrstev s dostupným výrobkem Degussa P25. Naměřené výsledky jsou v této práci prezentovány, diskutovány a odpovídají na otázku, zdali je možné metodou PECVD dosáhnout alespoň srovnatelných výsledků, jakých je dosaženo při tvorbě fotokatalytických vrstev pomocí výrobku Degussa P25.
Description
Keywords
plazma, plazmový reaktor, plazmový výboj, nízkotlaká depozice, PECVD, oxid titaničitý, TiO2, povrchová úprava, fotokatalýza, fotokatalytické vrstvy, plasma, plasma reactor, plasma discharge, low-pressure deposition, PECVD, titanium oxide, TiO2, surface treatment, photocatalysis, photocatalytic thin films