Aplikace surfatronového výboje v plazmochemických aplikacích

Abstract

Tato diplomová práce se zabývá využitím plazmochemických reakcí v technologických aplikacích, především při depozici tenkých vrstev a jejich následnou diagnostikou. V úvodní části práce jsou popsány základní teoretické aspekty fyziky plazmatu. Jsou zde uvedeny vztahy mezi teplotou, tlakem a typem výboje a fyzikální principy vzniku a udržení plazmatu. Následující kapitola se věnuje zdrojům plazmatu generovaným mikrovlnným polem, speciálně surfatronu. Experimentální část diplomové práce byla provedena právě s použitím surfatronového výboje. V poslední teoretické části jsou popsány různé typy reaktorů využívaných při depozici a metody diagnostiky tenkých vrstev, především AFM mikroskopie a rentgenová difrakce. Praktická část se sestávala hlavně z přípravy a depozice tenkých vrstev oxidu TiO2 různé tloušťky a vlastností. V následné diagnostice vzorků, provedené ve spolupráci s Fyzikálním ústavem Akademie věd v Praze, je srovnán vztah mezi dobou depozice a vlastnostmi vrstev jako je tloušťka či drsnost povrchu. V práci je popsán také vliv teplotního žíhání vzorku na jeho fotoaktivitu.