| dc.contributor.advisor | Špatenka, Petr | |
| dc.contributor.author | Pekárek, Michal | |
| dc.date.accessioned | 2021-12-08T08:06:49Z | |
| dc.date.available | 2021-12-08T08:06:49Z | |
| dc.date.issued | 2013 | |
| dc.date.submitted | 2013-04-30 | |
| dc.identifier.uri | https://dspace.jcu.cz/handle/20.500.14390/30529 | |
| dc.description.abstract | Cílem této diplomové práce je depozice titan oxidových vrstev metodou PECVD za pomoci vlastního PECVD reaktoru, sestaveného v budově Katedry aplikované fyziky a techniky. Dalším cílem je optimalizace parametrů depozice za cílem vytvoření fotokatalytických TiOx vrstev a srovnání těchto vrstev s dostupným výrobkem Degussa P25. Naměřené výsledky jsou v této práci prezentovány, diskutovány a odpovídají na otázku, zdali je možné metodou PECVD dosáhnout alespoň srovnatelných výsledků, jakých je dosaženo při tvorbě fotokatalytických vrstev pomocí výrobku Degussa P25. | cze |
| dc.format | 45s (61 866 znaků) | |
| dc.format | 45s (61 866 znaků) | |
| dc.language.iso | cze | |
| dc.publisher | Jihočeská univerzita | cze |
| dc.rights | Bez omezení | |
| dc.subject | plazma | cze |
| dc.subject | plazmový reaktor | cze |
| dc.subject | plazmový výboj | cze |
| dc.subject | nízkotlaká depozice | cze |
| dc.subject | PECVD | cze |
| dc.subject | oxid titaničitý | cze |
| dc.subject | TiO2 | cze |
| dc.subject | povrchová úprava | cze |
| dc.subject | fotokatalýza | cze |
| dc.subject | fotokatalytické vrstvy | cze |
| dc.subject | plasma | eng |
| dc.subject | plasma reactor | eng |
| dc.subject | plasma discharge | eng |
| dc.subject | low-pressure deposition | eng |
| dc.subject | PECVD | eng |
| dc.subject | titanium oxide | eng |
| dc.subject | TiO2 | eng |
| dc.subject | surface treatment | eng |
| dc.subject | photocatalysis | eng |
| dc.subject | photocatalytic thin films | eng |
| dc.title | Optimalizace depozičních parametrů za účelem vytvoření fotokatalytických titanoxidových vrstev metodou PECVD | cze |
| dc.title.alternative | Optimization of deposition parameters in order to create a photocatalytic titanium oxide films produced by PECVD | eng |
| dc.type | diplomová práce | cze |
| dc.identifier.stag | 24547 | |
| dc.description.abstract-translated | This thesis presents Photocatalytic TiOx layers created by own PECVD reactor assembled in the building of Department of Applied Physics and Technics. Parameters of depositions were optimalized as well as the PECVD reactor itself. Final layers are compared to layers made by Degussa P25. As a result based on the included measurements, this thesis tries to answer the question whether PECVD is the suitable method for depositions of photocatalytic layers. | eng |
| dc.date.accepted | 2013-05-23 | |
| dc.description.department | Pedagogická fakulta | cze |
| dc.thesis.degree-discipline | F-VT/SŠ | cze |
| dc.thesis.degree-grantor | Jihočeská univerzita. Pedagogická fakulta | cze |
| dc.thesis.degree-name | Mgr. | |
| dc.thesis.degree-program | Učitelství pro střední školy | cze |
| dc.description.grade | Dokončená práce s úspěšnou obhajobou | cze |
