Zobrazit minimální záznam

dc.contributor.advisorŠpatenka, Petr
dc.contributor.authorKrajčovič, Jan
dc.date.accessioned2021-12-08T09:00:40Z
dc.date.available2021-12-08T09:00:40Z
dc.date.issued2014
dc.date.submitted2014-01-23
dc.identifier.urihttps://dspace.jcu.cz/handle/20.500.14390/31527
dc.description.abstractCílem této diplomové práce bylo nanesení tenkých vrstev TiO2 na různé typy a velikosti substrátů, přičemž některé vrstvy vytvořit s využitím dopantů železa nebo stříbra. V rámci práce byla nanesena řada vrstev TiO2 metodou magnetronového naprašování na aparatuře Dreva ARC 400 Hard Material Coating Plant. Hlavním cílem nanášení těchto vrstev bylo, pokusit se nanést tenké vrstvy TiO2 na substráty o větší ploše, než je při běžných laboratorních procesech běžné. Za tímto účelem byly vrstvy nanášeny na čtvercové skleněné destičky o straně 10 cm. Pro porovnání a zkoumání dalších vlastností nanesených vrstev byly jako substráty použity také mikroskopická sklíčka a úlomky z křemíkových destiček. Na těchto substrátech byla poté testována fotokatalytická aktivita a morfologie nanesených vrstev. Teoretická část této práce je zaměřena na používané metody nanášení tenkých vrstev TiO2 a jejich vlastnosti. V experimentální části je pak popsána použitá aparatura a parametry jednotlivých depozičních procesů. Dále je zde shrnutí vlastností nanesených vrstev a výsledky jednotlivých experimentů.cze
dc.format65
dc.format65
dc.language.isocze
dc.publisherJihočeská univerzitacze
dc.rightsBez omezení
dc.subjectTiO2cze
dc.subjectoxid titaničitýcze
dc.subjectdepozicecze
dc.subjectmagnetronové naprašovánícze
dc.subjectPVDcze
dc.subjecttenké vrstvycze
dc.subjectfotokatalýzacze
dc.subjectdopovánícze
dc.subjectdopantycze
dc.subjectSEMcze
dc.subjectTiO2eng
dc.subjectTitanium dioxideeng
dc.subjectdepositioneng
dc.subjectmagnetron sputteringeng
dc.subjectPVDeng
dc.subjectthin filmeng
dc.subjectthin layereng
dc.subjectphotocatalysiseng
dc.subjectdopingeng
dc.subjectdopantseng
dc.subjectSEMeng
dc.titleVytváření tenkých vrstev pro aplikace pokročilých oxidačních procesů s využitím kovových dopantůcze
dc.title.alternativeDeposition of the thin films for applications of advanced oxidation processes using metal dopantseng
dc.typediplomová prácecze
dc.identifier.stag35678
dc.description.abstract-translatedThe aim of this diploma thesis is deposition of TiO2 thin films onto different types and sizes of substrates, and some of these layers dope by iron or silver. During the work was range of TiO2 layers created using a method of physical vapor deposition namely magnetron sputtering. For these processes was chosen the Dreva ARC 400 Hard Material Coating Plant device. The main aim of these depositions was to attempt to create TiO2 thin films on a substrates of larger surface than its in average laboratory processes usual. For this purpose were TiO2 layers deposited onto square glass plates of side length 10 cm. For comparsion and analysis were also as a substrates used microscope slides and fragments of silicon wafers. These substrates were used for testing of photocatalytic activity and on surface morphology (SEM). The theoretical part of this thesis aims to a methods of deposition TiO2 layers and their characteristics. In the experimental part is the used coating equipment and parameters of each deposition process described. Further the characteristics and results of individual experiments are described.eng
dc.date.accepted2014-02-03
dc.description.departmentPedagogická fakultacze
dc.thesis.degree-disciplineFn-Incze
dc.thesis.degree-grantorJihočeská univerzita. Pedagogická fakultacze
dc.thesis.degree-nameMgr.
dc.thesis.degree-programUčitelství pro základní školycze
dc.description.gradeDokončená práce s úspěšnou obhajoboucze


Soubory tohoto záznamu

Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail

Tento záznam se objevuje v

Zobrazit minimální záznam